近日，我公司昆山普樂(lè)斯電子科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“普樂(lè)斯電子”）自主研發(fā)的《一種等離子體處理裝置》成功獲得國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的實(shí)用新型專利授權(quán)。這標(biāo)志著公司在等離子體表面處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域再添一座堅(jiān)實(shí)的技術(shù)砝碼，進(jìn)一步鞏固了我們?cè)谛袠I(yè)中的差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

創(chuàng)新研發(fā)始終是普樂(lè)斯電子驅(qū)動(dòng)企業(yè)發(fā)展的第一引擎。自公司成立以來(lái)，我們持續(xù)深耕等離子體技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域，已先后推出轉(zhuǎn)鼓式、抽屜式、寬幅大氣槍等多種低溫等離子體表面處理設(shè)備，產(chǎn)品矩陣覆蓋醫(yī)療器械、電子元器件、半導(dǎo)體封裝、汽車制造、航空航天等眾多行業(yè)。截至目前，公司已累計(jì)獲得數(shù)十項(xiàng)發(fā)明專利、實(shí)用新型專利及軟件著作權(quán)，并建立了規(guī)范化的研發(fā)與知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理體系。

持續(xù)創(chuàng)新

在普樂(lè)斯，一款新專利的誕生，從來(lái)不是“為了創(chuàng)新而創(chuàng)新”，而是為了交付一臺(tái)真正能跑通客戶工藝參數(shù)的、更高效、更穩(wěn)定、更智能的等離子體處理設(shè)備。每一項(xiàng)專利技術(shù)的背后，都凝聚著研發(fā)團(tuán)隊(duì)夜以繼日的方案設(shè)計(jì)與反復(fù)驗(yàn)證，以及對(duì)電極結(jié)構(gòu)、反應(yīng)腔體布局、氣流通道等核心部件開(kāi)展的系統(tǒng)化尋優(yōu)及改進(jìn)。

讓專利技術(shù)賦能真實(shí)生產(chǎn)線

對(duì)于工業(yè)制造企業(yè)而言，等離子體處理設(shè)備的最終價(jià)值不僅在于“技術(shù)參數(shù)有多漂亮”，更在于“在產(chǎn)線上是否真正好用”。普樂(lè)斯十分注重將專利技術(shù)成果進(jìn)行快速轉(zhuǎn)化，形成具備高工藝適應(yīng)性的系列量產(chǎn)設(shè)備。

作為低溫等離子體應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，普樂(lè)斯電子憑借長(zhǎng)期積累的工藝數(shù)據(jù)庫(kù)和貼身售后體系，幫助客戶實(shí)現(xiàn)更加穩(wěn)定可控的生產(chǎn)節(jié)拍及批量產(chǎn)品品質(zhì)一致性。

以自主研發(fā)為核

本次《一種等離子體處理裝置》專利的正式獲權(quán)，不僅進(jìn)一步擴(kuò)充了公司核心技術(shù)資產(chǎn)庫(kù)，更為公司的真空等離子清洗機(jī)及大氣常壓處理設(shè)備在未來(lái)的升級(jí)換代方面儲(chǔ)備了新的核心元件及技術(shù)潛力。它代表著普樂(lè)斯在等離子體處理裝備總體架構(gòu)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了一次從基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)到多場(chǎng)景工藝適應(yīng)性的重要技術(shù)跨越，為企業(yè)成功切入更為尖端的細(xì)分賽道儲(chǔ)備了關(guān)鍵的創(chuàng)新動(dòng)能。